Хэштег #литография | Тинькофф Инвестиции Пульс

Новые подходы в разработке экстремально-ультрафиолетовой (EUV) литографии внедряются китайскими учеными, прокладывая путь к массовому производству передовых полупроводниковых микросхем, что позволит Китаю обойти американские санкции, сообщает South China Morning Post.

🔥 Китай снова огорчает США. Shanghai Micro Electronics Equipment Group, ведущий производитель литографического оборудования в Китае, совершила прорыв – создала первый литографический сканер, построенный на базе отечественных компонентов и позволяющий выпускать интегральные микросхемы по технологии 28 нанометров. И это действительно большой прогресс, поскольку ранее их линейка сканеров ограничивалась поддержкой уже достаточно древних техпроцессов: 90 нм, 110 нм и 280 нм. Хотя может показаться, что и 28 нм – тоже так себе достижение и «прошлый век», например TSMC, тайваньский микросхемный гигант, поставил на поток технологию целых 12 лет назад, в 2011 году, а китайский SMIC освоил технологию немного позже – в 2015 году, но тоже очень давно. Но стоит учитывать, что в обоих случаях речь шла об использовании «заморского» оборудования из Нидерландов – от ASML, безоговорочного лидера литографической отрасли. А тут всё полностью своё, родное – китайское. Это значит, США снова придется лить слезы – все попытки технологически задавить нашего восточного товарища постигают неудачу и отставание значительно сокращается. Остается только вопрос, смогут ли и когда наладить массовое производство этого оборудования. Интересно также, что сначала китайская компания Zhangjiang Group опубликовала данную новость, что вызвало бурный интерес – акции SMEE на бирже выросли на 8%. Но достаточно оперативно новость «подредачили» и упоминание 28 нм куда-то исчезло – своеобразно китайцы секретничают.