#Canon #Литограф ⚡️Японская компания Canon начала поставки нового литографического оборудования для производства микросхем по топологии 5 нм. Литограф Canon будет стоить приблизительно в 10 раз дешевле аналогичных решений компании ASML из Нидерландов. ❓Кто там говорил, что эти инопланетные технологии доступны только избранным? 😉😁 https://zoom.cnews.ru/news/item/583561

#Росатом #литограф #осталось_дождаться Российский рентгеновский литограф будет создан при участии «Росатома». ❇️ В июле этого года премьер Михаил Мишустин побывал в городе Саров, где он посетил филиал МГУ имени М.В.Ломоносова и институт лазерно-физических исследований. И поездка эта не прошла даром. По итогам поездки Мишустин дал ряд поручений, в том числе, касающихся научных разработок саровского Национального центра физики и математики.  ❇️ Так, Минпромторгу и Минэкономразвития было поручено проработать предложения «Росатома» по нескольким проектам, в том числе, по проекту создания отечественного рентгеновского литографа и производственных технологий для его использования. Срок исполнения поручений — 30 августа 2023 года. ❇️ Август закончился, предложения «Росатома», очевидно, проработаны, добро получено, и «Росатом» начал финансирование проекта средствами из своих инвестиционных программ. Как сказал научный руководитель Национального центра физики и математики, академик РАН Александр Сергеев, проект также пользуется активной поддержкой правительства страны ❇️ Таким образом, можно констатировать, что работа началась. ❇️ К концу 2025-го года может быть изготовлен прототип установки на 90 нм, а промышленный образец к концу 2028-го года на 32 нм. Затем нормы будут постепенно продолжать снижаться за счёт более точной донастройки оборудования. Этапы создания рентгеновского литографа Альфа-машина ❇️ Этот этап рассчитан на 2 года и уже начат в инициативном порядке. Разработана 3D-модель вакуумной камеры, начато её изготовление. Разработана 3D-модель рентгенооптической системы. ❇️ Оптика машины будет давать разрешение менее 28 нм, но за счёт пока ещё несовершенной системы позиционирования (сканирования и совмещения) технологические нормы на этом этапе ожидаются в районе 90 нм. ❇️ Теоретический предел производительности этого прототипа в случае автоматической подачи пластин диаметром 100 мм — 40 пластин в час. Фактически же подача будет ручная, и реальная производительность будет находится в районе 3-х пластин в час. ❇️ Таким образом, прототип обещает быть построенным к концу 2025 года.  Промышленная машина 1-го поколения ❇️ Длительность работ по этому проекту оценивается в 3 года. В бета-машине топологическую норму рассчитывают поднять до 32 нм. ❇️ Уже этот вариант можно считать промышленным, и его можно будет поставлять предприятиям микроэлектронной промышленности. Его обещают построить к концу 2028 года. Промышленные машины последующих поколений ❇️ Работы по литографу будут продолжаться, и появятся следующие поколения машин. На появление новых поколений ранее также отводилось 3 года. Планировалось постепенное улучшение всех характеристик машины. Технологические нормы рассчитывали поднять до 28 нм, а затем до 16 и 12 нм. Таким образом, к 2032-му году у нас может быть собственное оборудование, как минимум, для техпроцесса 28 нм, а как прогнозируемый учёными максимум — 12 нм. Если планы осуществятся, это будет национальный технологический прорыв.

#Россия #литограф В России могут создать 7 нм литограф. Хорошие новости приходят из Нижнего Новгорода. Мы неоднократно говорили о том, что невозможно собирать оборудование без электронной компонентной базы, а ЭКБ – без станков. Нет топора – нет бревна. Нет бревна – нет дома. Тут также. Сейчас азиатские коллеги добились перехода на новый техпроцесс, позволяющий выпускать чипы топологией 2 нм. Зеленоградский «Микрон» сейчас позволяет производить топологию 65 нм. Рядом, там же в Зеленограде, хотели создавать МНТЦ МИЭТ, который был нацелен на 28 нм. Но, все уперлось в поставку голландских фотолитографов и техпроцесс упал до уровня 350-130 нм. Институт прикладной физики РАН заявил, что ведут разработку установки литографии сверхмалого нанометража – 7 нм. К 2024 году обещают создать «альфа»-версию, еще через два года докрутить до «беты» а в 2026-28 выйти на полную мощность. Мало того, ученые утверждают, что наша установка в сравнении с голландской ASML в разы компактнее и точнее. Мощность при этом должна быть в 1,5-2 раза эффективнее. Звучит правдоподобно. Надеемся, у коллег из ИПФ РАН все получится, потому что собственный литограф – это основа нашего цифрового будущего. https://www.cnews.ru/news/top/2022-10-21_v_rossii_vedetsya_razrabotka

$INTC $AMD #аналоги #asml #литограф #прорыв #МИЭТ Отечественный прорыв в технологии производства процессоров. ✳️ В России началась разработка безмасочного фотолитографа для норм 28 нм ❇️ 65% всех современных процессоров производится на фотолитографических сканерах нидерландской компании ASML. Разработка таких технологий с нуля — это миллиарды долларов. Поэтому такие известные производители, как Intel и AMD, предпочитали инвестировать в технологии голландцев. Однако российские ученые намерены «разбить» монополию ASMLithography. ❇️ Что придумали российские ученые Стоимость литографа — выше $300 млн. Чем меньше техпроцесс (а сейчас уже используются 7 нм, 6 нм), тем он дороже.  Для работы фотолитографу нужны маски, так называемые шаблоны, по которым переносится рисунок. Такой шаблон делается под каждую новое поколение, то есть для core i7 3770 — одна маска, а для  core i7 4770 — другая. В Московском институте электронной техники (МИЭТ) разрабатывают концепцию рентген-литографа, для которого маски (как отдельная деталь) не нужны. Весь рисунок, который представляет собой цифровое изображение, проектируется на микрооптическую систему (МОЭМС), по сути, на микроэкран. При этом оборудование поддерживает техпроцесс 28 нм и менее, вплоть до 10. ❇️ Теория или реальность МИЭТ, основываясь на российских разработках, получил госконтракт стоимостью 670 млн рублей на создание технологии и макетов масок, техзадание и техническо-экономическое обоснование первого образца литографа. Все работы планируют завершить в ноябре этого года. То есть к созданию опытного образца, возможно, приступят уже в начале 2023 года. ❇️ Промышленный выпуск, по прогнозам, начнется примерно через 5 лет. ❇️ В проекте будут использованы теоретические наработки и оборудование многих НИИ и КБ. В частности, зеленоградской компании «ЭСТО», ТНК «Зеленоград», НИЦ «Курчатовский институт», филиала Института прикладной физики РАН в Нижнем Новгороде, Института спектроскопии РАН в Троицке. ❇️ Отмечается, что такие литографические сканеры будут в несколько раз дешевле тех, что используют излучение с длиной волны 193 нм (глубокий ультрафиолет). А они в свою очередь в несколько раз дешевле наиболее современных, использующих жёсткий ультрафиолет. ❇️ Экономические перспективы Исследования по созданию безмасочного фотолитографа велись с 2010 года. Значит, успех вполне вероятен. Аналогов российской технологии нет. Она действительно может перевернуть представление о производстве микропроцессоров, так как удешевляет весь процесс.